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日前參與EDA技術(shù)論壇(EDA Tech Forum)的人士稱,轉(zhuǎn)向45納米工藝節(jié)點將成本高昂,并且挑戰(zhàn)重重,但對于某些應(yīng)用而言卻是值得的。

由明導(dǎo)資訊(Mentor graphics)公司CEO Wally Rhines主持的研討會主題為“通向45納米之路:朝向地獄嗎？”。但會議的結(jié)論并非如此。盡管設(shè)計和制造成本不合理,與會嘉賓仍普遍對EDA和代工廠商迎頭趕上拿出解決方案的能力以及設(shè)計公司通過IP復(fù)用使它們在45納米技術(shù)的投資發(fā)揮杠桿作用表示樂觀。

Semico Research公司總裁Jim Feldhan表示,有一個潛在產(chǎn)品的“簡短名單”將在最初幾年需要45納米技術(shù),包括微處理器、高端圖形、存儲器和任何需要晶體管數(shù)量并能推動批量化的應(yīng)用。但由于工廠成本也許達60億美元,僅有少數(shù)幾家公司能夠興建45納米生產(chǎn)廠。

到2012年左右,他表示,45納米技術(shù)將足夠成熟,并得到足夠多的設(shè)計工具支持,以吸引更廣泛的應(yīng)用。

Blaze DFM公司主席兼CTO Andrew Kahng認(rèn)為,45納米的設(shè)計挑戰(zhàn)包括密度、泄漏及投資回報。另一大挑戰(zhàn)是“老化的習(xí)慣如設(shè)計規(guī)則手冊,或者SP&R(綜合、布線和布局)提交給制造商。這些在65納米確實表現(xiàn)出壓力。”