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　　目前常用的光源有以下兩種：一類(lèi)是經(jīng)典光源包括電弧及火花光源，其中以高壓控波光源、低壓火花高速光源和高能預(yù)火花光源在冶金分析中得到廣泛應(yīng)用，一類(lèi)是等離子體光源居多，在不同領(lǐng)域中得到普遍采用。

　　光譜分析常用光源有以下幾種放電方式：
　　1、高能預(yù)火花放電電流可達(dá)150安和燃燒時(shí)間為150微秒，這樣使試樣中燃燒斑點(diǎn)內(nèi)的組織結(jié)構(gòu)更加均勻，由此來(lái)消除元素之間干擾及元素之間結(jié)合等效應(yīng)。
　　2、火花型放電對(duì)大多數(shù)元素重現(xiàn)性好。
　　3、電弧型放電重現(xiàn)性要比火花放電差2—3倍，但對(duì)痕量元素檢出限要低得多。
　　因此在選擇光源時(shí)應(yīng)盡量滿足以下要求：
　　1、高靈敏度，隨著樣品中元素濃度微小變化，其檢出的信號(hào)有較大的變化;
　　2、低檢出限，能對(duì)微量及痕量成分進(jìn)行檢驗(yàn);
　　3、良好的穩(wěn)定性，試樣能穩(wěn)定的蒸發(fā)、原子化和激發(fā)，使結(jié)果具有較高的精密度：
　　4、譜線強(qiáng)度與背景強(qiáng)度之比大(信噪比大);
　　5、分析速度快，預(yù)燃時(shí)間短;
　　6、構(gòu)造簡(jiǎn)單，容易操作，安全;
　　7、自吸收效應(yīng)小，校準(zhǔn)曲線的線性范圍寬。
　　光源激發(fā)條件的選擇，要根據(jù)分析對(duì)象經(jīng)過(guò)試驗(yàn)來(lái)決定。對(duì)于不同的試樣在不同的光源下其預(yù)燃時(shí)間是不一樣的，這主要取決于試樣在火花放電時(shí)的蒸發(fā)過(guò)程，它不僅與光源的能量、放電氣氛密切有關(guān)以外，還與試樣組成、結(jié)構(gòu)狀態(tài)、夾雜物種類(lèi)、大小等等密切有關(guān)。
　　在氬氣氣氛中的火花放電一般可以分為兩種極端狀態(tài)：濃縮放電和擴(kuò)散放電。當(dāng)放電是在金屬相上進(jìn)行時(shí)稱(chēng)濃縮放電，當(dāng)放電是在非金屬相上進(jìn)行時(shí)稱(chēng)擴(kuò)散放電。在氬氣中放電時(shí)，產(chǎn)生擴(kuò)散放電的主要原因有以下三個(gè)方面：
　　1、氬氣的純度;
　　2、氬氣的出入口管道或放電室的泄露是使放電過(guò)程中引入氧氣的第二個(gè)來(lái)源：
　　3、樣品本身是使放電過(guò)程中引入氧氣的第三個(gè)來(lái)源(如夾雜物，氣泡和裂紋等);在氬氣中放電時(shí)，氬氣壓力，氬氣流量及沖洗時(shí)間也均影響光電光譜分析的結(jié)果。
　　基體效應(yīng)又稱(chēng)共存元素、第三元素或伴隨物效應(yīng)，主要是指除了分析物以外存在于樣品中所有其他成分的影響，是光譜分析中引起譜線強(qiáng)度變化，使分析結(jié)果產(chǎn)生誤差的主要原因，這種效果應(yīng)又稱(chēng)干擾效應(yīng)，是光譜分析中為復(fù)雜的問(wèn)題。
　　在實(shí)際工作中，由于分析試樣和標(biāo)樣的冶煉過(guò)程和物理狀態(tài)的差異，常使校準(zhǔn)曲線發(fā)生變化，通常標(biāo)樣多為鍛造和軋制狀態(tài)，而分析樣品多為澆鑄狀態(tài)，為避免試樣的冶金狀態(tài)變化給分析帶來(lái)的影響，常用一個(gè)與分析試樣的冶金過(guò)程和物理狀態(tài)一致的控制試樣，用于控制試樣的分析結(jié)果。
　　在光譜分析中，取樣方法及其對(duì)樣品的處理是至關(guān)重要的，它直接影響分析的精度和準(zhǔn)確度。在爐前分析時(shí)，對(duì)爐中鑄態(tài)鋼樣采取快速紅切，發(fā)現(xiàn)樣品有裂紋、夾雜和氣孔須重新取樣。遇低碳鋼將紅料放入流水中急冷，促使樣品組織結(jié)構(gòu)形成馬氏體和奧氏體，保證碳的分析結(jié)果的準(zhǔn)確度。遇高碳樣品切割后反要采取暖冷，以免產(chǎn)生裂縫。鑄鐵和球墨鑄鐵分析，必須使分析樣品進(jìn)行充分的白口化，要求取樣標(biāo)準(zhǔn)化，如取樣溫度、脫模時(shí)間、冷卻速度。分析不同的材料，選用不同性質(zhì)的研磨工具也很重要。一般采用氧化鋁砂輪片，其顆粒是中等的，不要過(guò)細(xì)。樣品表面要去掉0、5～1、5毫米，因?yàn)闃悠繁砻嫜趸瘜油斐慑e(cuò)誤的分析結(jié)果，尤其是對(duì)碳的分析結(jié)果更為顯著。
　　總之，檢測(cè)分析誤差總是存在的，重要是要正確的對(duì)待它，消除它。對(duì)于光電光譜分析來(lái)說(shuō)，誤差的產(chǎn)生主要是來(lái)自以下五個(gè)方面因素的變化：
　　人：操作者的質(zhì)量意識(shí)，技術(shù)水平，熟練程度及身體素質(zhì)。
　　設(shè)備：設(shè)備維護(hù)是至關(guān)重要的,光源的性能及再現(xiàn)性，氬氣系統(tǒng)的穩(wěn)定程度，試樣加工設(shè)備及其保養(yǎng)狀況。
　　試樣：待測(cè)試樣成分的均勻性，代表性，熱處理狀態(tài)及組織結(jié)構(gòu)狀態(tài)。標(biāo)準(zhǔn)試樣和控制試樣成分的均勻性，成分含量標(biāo)準(zhǔn)值的可靠性，組織結(jié)構(gòu)的同一性。磨制樣品的方法及其效果都是關(guān)鍵。
　　分析方法：校準(zhǔn)曲線的制作及其擬合程度，標(biāo)準(zhǔn)化的過(guò)程及其效果，控樣的選擇及定值都要嚴(yán)格操作。
　　環(huán)境：控制好分析室的溫度、濕度、電磁干擾和清潔條件等。有了一個(gè)穩(wěn)定的操作環(huán)境，儀器的穩(wěn)定性才會(huì)好。