發布日期：2022-04-27 點擊率：68
1.背景介紹
電子半導體行業近幾年發展特別快，隨之而來的是生產過程中產生了大量的有毒有害廢水，包括酸堿廢水、含氟廢水、金屬廢水、有機廢水、氰化物廢水等，這些廢水必須經過處理達標后才能排放。目前，電子半導體行業沒有針對性的污染物排放標準發布，其執行的標準仍為《污染物綜合排放標準》，但是，電子半導體企業對廢水排放有嚴格的內控指標。電子半導體企業 除了監控 COD、氨氮等常規指標外，也非常重視砷、鉛等一類重金屬污染物的排放量。
廈門某電子公司于 2015 年采購了一臺 XOS 總砷分析儀，用于排口廢水總砷監測，測試數 據通過 MODBUS 通訊(儀表自帶 RS485 接口)傳輸至 PLC，實時上傳至當地環保局。儀表從企業 正常生產后開始運行，連續運行兩個多月無需維護，測量數據穩定，用戶反饋較好。
2.應用情況
主要儀器：XOS 總砷分析儀、CYQ 預處理器。
右圖為現場安裝圖。儀表初次安裝不需要校準，為檢查儀表的 測量準確性，配制了 0.4 mg/L 的標液，使用儀表自帶的標樣核查功 能，測量結果為 0.399 mg/L。XOS 總砷分析儀與 CYQ 預處理器聯動， 按設定時間定時抽取水樣進行分析。CYQ 預處理器的作用是自清洗進樣管路和提供連續的流速穩定的水樣，確保儀表正常運行，減少 維護量。
為保證測量準確性，儀表每天設置 1 次背景修正，以去除懸浮物附著在膜片上對測量結果的影響。安裝后連續測量兩個多月，測 量數據穩定在 0.15～0.30 mg/L 之間，滿足 0.5mg/L 的排放要求。運行期間無需人為維護，儀器表現出較好的測量穩定性，與實驗室測 量結果比對一致性較好，用戶較為滿意。
3．總結
（1）XOS 總砷分析儀采用單色波長色散 X 射線熒光法，運行期間不需使用任何化學試劑，不受懸浮物、色度及其他金屬離子干擾，測量穩定性較好，維護量極低，可滿足電子半導體廢水 的在線監測要求。
（2）XOS 總砷分析儀初次安裝無需校準，校準周期為 3‐6 個月；與動力窗模塊配套使用時， 可大大降低維護量，最大限度降低維護成本。
（3）XOS 重金屬已獲得環保認證，可用于廢水排口總砷、總鉛監測。
案例類型：
應用案例-XOS-TAs 在電子半導體排放廢水監測中的應用-電子半導體行業-2017.6.9
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