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位于英國Buckinghamshire的In2Fab Technology公司最近推出一套工具,據稱可將在某種工藝節點創建的模擬設計和知識產權(IP),迅速地重定目標(retarget),用于另一種工藝節點。

In2Fab表示,其Osiris系列工具基于其專利的“復雜節點縮放(complex nodal scaling)技術”,能夠在工藝幾何尺寸之間端接復雜的模擬電路,且能使整個電路維持精確的分層和拓撲關系。

例如,Osiris從130nm到90nm CMOS工藝轉換過程中,重新瞄準了鎖相環(PLL)應用,設置時間只用了兩個半小時,加工用了10分鐘,分析與調整用了3天。相比而言,據In2Fab CEO Robert Baker稱,采用傳統的方法重新調整類似的設計需花費1到2個月,大約1周重新畫線路圖,然后4到6周進行器件布局。總體上采用Osiris能縮短10倍以上的時間。

Baker表示Osiris重定目標標工藝自動化程度高。“如果幾何尺寸變化,例如從180nm到130nm,設計可被縮放以實現優化裸片尺寸。”Baker透露,In2Fab目前正與歐洲集成器件制造商就65nm節點合作,期望使許多模擬和混合信號模塊能被用于商業化的系統級芯片(SoC)開發。